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奈米積體電路薄膜元件之真空電漿表面改質與全程電化學孔渠填充研究
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後設資料
資料識別:
A10020426
資料類型:
期刊論文
著作者:
謝逸弘 許佩雯 陳松德 陳錦山
主題與關鍵字:
真空電漿表面改質 全程濕式電化學製程 晶種分布密度 薄膜表面覆蓋率
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:20:1 2007.10[民96.10]
頁次:頁28-35
日期:
20071000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
謝逸弘 許佩雯 陳松德 陳錦山(20071000)。[奈米積體電路薄膜元件之真空電漿表面改質與全程電化學孔渠填充研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b2/54.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b2/54.html
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