以脈衝式直流磁控濺鍍法製鍍二氧化矽之光學特性及沉積速率研究

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資料識別:
A10020424
資料類型:
期刊論文
著作者:
林金仕(Lin, C. S.) 江忠憲(Chiang, C. H.) 唐謙仁(Tang, C. J.)
主題與關鍵字:
反應性脈衝磁控濺鍍 雙極性脈衝 二氧化矽
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:20:1 2007.10[民96.10]
頁次:頁22-27
日期:
20071000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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