首頁
部落格
Facebook專頁
ENGLISH
珍藏特展
目錄導覽
技術體驗
成果網站資源
目錄導覽首頁
HOTKEY快速導覽
內容主題
典藏機構
進階搜尋
資源聯盟
首頁
目錄導覽
內容主題
新聞
國圖館藏期刊
首頁
目錄導覽
典藏機構與計畫
國家圖書館
國家圖書館期刊報紙典藏數位化計畫
射頻濺鍍功率對氧化鋅薄膜機械性質之影響
推薦分享
資源連結
連結到原始資料
(您即將開啟新視窗離開本站)
後設資料
資料識別:
A10020422
資料類型:
期刊論文
著作者:
魏中聖 蕭俊卿 沈弘俊
主題與關鍵字:
真空射頻濺鍍系統 氧化鋅薄膜 掃描電子顯微鏡 濺鍍功率 SEM ZnO
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:20:1 2007.10[民96.10]
頁次:頁15-21
日期:
20071000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
魏中聖 蕭俊卿 沈弘俊(20071000)。[射頻濺鍍功率對氧化鋅薄膜機械性質之影響]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b2/51.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/b2/51.html
評分與驗證
請為這筆數位資源評分
感謝您為這筆數位資源評分,為了讓資料更容易被檢索利用,請選擇和這項數位資源相關的詞彙:
電子顯微鏡
濺鍍系統
氧化鋅
俊卿
射頻
請填入更適合的關鍵詞
推薦藏品
石化工業區廢水處理廠放流水與冷卻水回...
IC光阻材料技術發展
挪威對於養殖魚類之安全、衛生及基改飼...
三相混合式發電系統變頻器之研製
行動數位生活技術研發計畫成果與展望
雲煙過眼新錄(1)