射頻濺鍍功率對氧化鋅薄膜機械性質之影響

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A10020422
資料類型:
期刊論文
著作者:
魏中聖 蕭俊卿 沈弘俊
主題與關鍵字:
真空射頻濺鍍系統 氧化鋅薄膜 掃描電子顯微鏡 濺鍍功率 SEM ZnO
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:20:1 2007.10[民96.10]
頁次:頁15-21
日期:
20071000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

石化工業區廢水處理廠放流水與冷卻水回...
IC光阻材料技術發展
挪威對於養殖魚類之安全、衛生及基改飼...
三相混合式發電系統變頻器之研製
行動數位生活技術研發計畫成果與展望
雲煙過眼新錄(1)