利用電子脈衝電鍍技術改善GaAs晶圓背側深孔鍍膜均勻度
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- 資料識別：
- A10017175
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 黃振國(Huang， Jenn-gwo) 陳錫榮(Chen， Si-rong)
- 主題與關鍵字：
- 電鍍 電子脈衝 均勻度 GaAs Electroplating Electron pulse Uniformity
- 描述：
- 來源期刊:建國科大學報
- 卷期:29:3 2010.04[民99.04]
- 頁次:頁97-108
- 日期：
- 20100400
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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