下世代微影技術之進展與挑戰(下)
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- 資料識別：
- A10015207
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 陳維恕(Chen， W. S.)
- 主題與關鍵字：
- 微影技術 微縮 雙重圖案化 電子束直寫 奈米壓印 光源-光罩同時最佳化 Lithography technology Double patterning EBDW Nano-imprint Source-mask co-optimization
- 描述：
- 來源期刊:工業材料
- 卷期:280 2010.04[民99.04]
- 頁次:頁155-159
- 日期：
- 20100400
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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