下世代微影技術之進展與挑戰(上)

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資料識別:
A10011088
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳維恕(Chen, W. S.)
主題與關鍵字:
微影技術 微縮 雙重圖案化 電子束直寫 奈米壓印 光源-光罩同時最佳化 Lithography technology Double patterning EBDW Nano-imprint Source-mask co-optimization
描述:
來源期刊:工業材料
卷期:279 2010.03[民99.03]
頁次:頁175-180
日期:
20100300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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