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Effects of Retaining Ring on Contact Stress Uniformity in Chemical Mechanical Planarization
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資料識別:
A10010683
資料類型:
期刊論文
著作者:
楊天祥(Yang, Tian-shiang) 胡逸群(Hu, Ian) 陳國聲(Chen, Kuo-shen) 劉家良(Liu, Chia-liang) 王耀塵(Wang, Yao-chen)
主題與關鍵字:
Chemical mechanical planarization Retaining ring Contact stress uniformity Contact mechanics Fluid film lubrication 化學機械平坦化 扣環 接觸應力 積體電路 晶圓
描述:
來源期刊:中國機械工程學刊
卷期:30:5 2009.10[民98.10]
頁次:頁381-392
日期:
20091000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
楊天祥(Yang, Tian-shiang) 胡逸群(Hu, Ian) 陳國聲(Chen, Kuo-shen) 劉家良(Liu, Chia-liang) 王耀塵(Wang, Yao-chen)(20091000)。[Effects of Retaining Ring on Contact Stress Uniformity in Chemical Mechanical Planarization]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/88/e6.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/88/e6.html
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