不同真空度與試片位置對TiCrN鍍膜之機械性質探討
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- 資料識別：
- A10000948
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 蕭惟隆(Hsiao， Wei-lung) 林忠民(Lin， Chung-ming)
- 主題與關鍵字：
- 陰極電弧電漿法 靶材 氮化鈦鉻薄膜 機械性質 Cathodic arc plasma deposition Target material TiCrN coating Mechanical property
- 描述：
- 來源期刊:正修學報
- 卷期:22 2009.11[民98.11]
- 頁次:頁101-117
- 日期：
- 20091100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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