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High-k/Metal Gate於奈米電晶體元件之特性應用
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後設資料
資料識別:
A09073758
資料類型:
期刊論文
著作者:
葉文冠 許家維
主題與關鍵字:
高介電常數 金屬閘極 場效電晶體
描述:
來源期刊:電子月刊
卷期:15:9=170 2009.09[民98.09]
頁次:頁117-127
日期:
20090900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
葉文冠 許家維(20090900)。[High-k/Metal Gate於奈米電晶體元件之特性應用]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/77/17.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/77/17.html
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