An Investigation of Strain Silicon Technology on Highly Strained， Highly Scaled NFET Devices
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A09072659
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- Lu， Chih-cheng Lei， Tan-fu Hou， Alex Tuo-hung Chien， Chao-hsin Liao， M. H. Lee， T. L. Jang， S. M.
- 主題與關鍵字：
- Strained silicon Effective mass Carrier mobility Drift-diffusion region Quasi-ballistic/ballistic transport
- 描述：
- 來源期刊:International Journal of Electrical Engineering
- 卷期:16:4 2009.08[民98.08]
- 頁次:頁289-294
- 日期：
- 20090800
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
