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臺灣與全球積體電路廠商研發外溢效果分析
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資料識別:
A09062382
資料類型:
期刊論文
著作者:
蔡璧徽(Tsai, Bi-huei) 陳先齊(Chen, Hsien-chi)
主題與關鍵字:
研發外溢 群聚 科專計畫 工研院 創新型態 R&D spillover Cluster S&T projects ITRI Innovation characteristics
描述:
來源期刊:創業管理研究
卷期:4:2 2009.06[民98.06]
頁次:頁29-57
日期:
20090600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
蔡璧徽(Tsai, Bi-huei) 陳先齊(Chen, Hsien-chi)(20090600)。[臺灣與全球積體電路廠商研發外溢效果分析]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/46/ac.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/46/ac.html
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