大面積電漿源鍍膜技術介紹
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- 資料識別：
- A09061198
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 吳佩珊 董福慶
- 主題與關鍵字：
- 電漿源 電漿輔助化學氣相沉積 大面積鍍膜技術 Plasma source PECVD Large-area deposition technology
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:314 2009.05[民98.05]
- 頁次:頁65-74
- 日期：
- 20090500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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