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原子層沉積技術的沿革
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後設資料
資料識別:
A09061196
資料類型:
期刊論文
著作者:
李侃峰 黃智勇 王慶鈞
主題與關鍵字:
原子層沉積 電漿輔助原子層沉積 太陽能電池 Atomic layer deposition Plasma enhanced atomic layer deposition Solar cell
描述:
來源期刊:機械工業
卷期:314 2009.05[民98.05]
頁次:頁51-57
日期:
20090500
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
李侃峰 黃智勇 王慶鈞(20090500)。[原子層沉積技術的沿革]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/3e/42.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/55/3e/42.html
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