The Pretreatment Effects on Gate Oxide Quality of a Trench-Typed MOSFET Device

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資料識別:
A09060988
資料類型:
期刊論文
著作者:
Jaw, Kuo-liang Chen, Ping-hsun
主題與關鍵字:
Power devices Gate oxide Sacrificial oxidation Etching
描述:
來源期刊:Tamkang Journal of Science and Engineering
卷期:11:3 2008.09[民97.09]
頁次:頁233-238
日期:
20080900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

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管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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