電弧沉積CrTiAlN及無電鍍鎳表面處理對ADI耐蝕性之影響
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- 資料識別：
- A09038660
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 許正勳(Hsu， C. H.) 陳貽宗(Chen， Y. T.) 呂冠健(Lu， K. C.)
- 主題與關鍵字：
- 沃斯回火延性鑄鐵 陰極電弧沉積 無電鍍鎳 CrTiAlN Austempered ductile iron Cathodic arc deposition Electroless nickel
- 描述：
- 來源期刊:鑄造工程學刊
- 卷期:35:1=140 2009.03[民98.03]
- 頁次:頁29-36
- 日期：
- 20090300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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