準分子雷射退火矽膜之再結晶機制研究
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- 資料識別：
- A09035659
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 郭啟全
- 主題與關鍵字：
- 再結晶機制 多晶矽膜 準分子雷射退火 矽膜 Recrystallization mechanism Polycrystalline silicon thin films Excimer laser annealing Silicon thin films
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:312 2009.03[民98.03]
- 頁次:頁94-108
- 日期：
- 20090300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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