奈米電子元件之銅金屬化薄膜製程技術
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- 資料識別：
- A09033187
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 陳錦山 陳松德
- 主題與關鍵字：
- 大馬士製程 銅金屬化 擴散阻障層 濺鍍沉積 晶種 無電鍍 Damascene process Cu metallization Diffusion barrier layers Sputter deposition Seeds Electroless plating
- 描述：
- 來源期刊:奈米通訊
- 卷期:16:1 2009.03[民98.03]
- 頁次:頁31-38
- 日期：
- 20090300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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