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超淺接面的形成--先進離子佈植退火製程
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後設資料
資料識別:
A09033186
資料類型:
期刊論文
著作者:
呂侑倫 趙天生 薛富國 李耀仁
主題與關鍵字:
超淺接面 快速高溫退火 雷射退火 微波退火 Ultra-shallow junction Spike annealing Millisecond laser annealing Microwave annealing
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:16:1 2009.03[民98.03]
頁次:頁25-30
日期:
20090300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
呂侑倫 趙天生 薛富國 李耀仁(20090300)。[超淺接面的形成--先進離子佈植退火製程]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/54/cf/08.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/54/cf/08.html
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