堆疊式高介電層與金屬閘極之金氧半元件電性研究
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- 資料識別：
- A09033185
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 傅崇豪 張廖貴術 王義文 簡伯諺 吳文發
- 主題與關鍵字：
- 堆疊式高介電層 氧化鋁鉿 矽酸鉿氧化合物 金屬閘極 高功函數 氮化鉬 氮化鈦 High-K dielectric stack HfAlO HfSiO Metal gate High work function MoN TiN
- 描述：
- 來源期刊:奈米通訊
- 卷期:16:1 2009.03[民98.03]
- 頁次:頁18-24
- 日期：
- 20090300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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