以電混凝法去除模擬化學機械研磨廢液中二氧化矽粒子之研究
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- 資料識別：
- A09012584
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 邱蕙琳(Chiu， Hui-lin) 張時瑜(Chang， Shih-yu) 周偉龍(Chou， Wei-lung) 賴宥蒼(Lai， Yu-tsang) 張文俊(Chang， Wen-chun)
- 主題與關鍵字：
- 化學機械研磨 電混凝 濁度 廢液 Chemical mechanical polishing Electrocoagulation Turbidity Wastewater
- 描述：
- 來源期刊:弘光學報
- 卷期:53 2008.08[民97.08]
- 頁次:頁267-276
- 日期：
- 20080800
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
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