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錫負極薄膜材料製備及電化學特性之研究
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後設資料
資料識別:
A07008307
資料類型:
期刊論文
著作者:
林庭誼(Lin, T. Y.) 林新智(Lin, H. C.) 邱國峰(Chiu, K. F.) 林昆明(Lin, K. M.)
主題與關鍵字:
射頻磁控濺鍍法 錫 基板偏壓 薄膜電池 RF magnetron sputtering Sn Substrate bias Thin film battery
描述:
來源期刊:材料科學與工程
卷期:37:3 民94.09
頁次:頁167-172
日期:
20050900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
林庭誼(Lin, T. Y.) 林新智(Lin, H. C.) 邱國峰(Chiu, K. F.) 林昆明(Lin, K. M.)(20050900)。[錫負極薄膜材料製備及電化學特性之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/52/63/83.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/52/63/83.html
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