以全像干涉及精密電鑄技術製作高分子薄膜光柵結構

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A07048727
資料類型:
期刊論文
著作者:
李昆益(Lee, Kun-yi) 李世文(Lee, Shih-wen) 李偉裕(Lee, Wei-yu)
主題與關鍵字:
全像干涉 電鑄翻模 光柵 聚碳酸酯高分子 Holographic interferometry Electroplating molding Grating Polycarbonate
描述:
來源期刊:中華技術學院學報
卷期:35 民95.12
頁次:頁257-265
日期:
20061200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

河洛文化與嶺南和廣府文化
撥號選接器監測與管理系統之發展
「幽靈」與「朋友」:論晚期解構主義的...
石化工業區廢水處理廠放流水與冷卻水回...
試介李勤岸、胡民祥、莊柏林、路寒袖、...
傳統骨科中藥材骨碎補對骨母細胞之生理...