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高品質氮化鎵厚膜之製作方法
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資料識別:
A07048642
資料類型:
期刊論文
著作者:
劉文岳 蔡政達 賴志銘 劉柏均 郭義德 葉瑞琴 張郁香
主題與關鍵字:
半導體元件 氮化鎵基板
描述:
來源期刊:電光先鋒
卷期:3 民95.04
頁次:頁1-6
日期:
20060400
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
劉文岳 蔡政達 賴志銘 劉柏均 郭義德 葉瑞琴 張郁香(20060400)。[高品質氮化鎵厚膜之製作方法]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/51/e6/e1.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/51/e6/e1.html
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