奈米範圍之場效電晶體臨界電壓對摻雜質濃度變異的敏感度

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A07003659
資料類型:
期刊論文
著作者:
林政男(Lin, Jeng-nan) 陳俊龍(Chen, Jiun-lung) 蒲佳輝(Pu, Jia-huei) 賴亮林(Lai, Liang-lin) 駱俊銘(Luo, Jiun-ming) 江孟學(Chiang, Meng-hsueh)
主題與關鍵字:
臨界電壓 摻雜濃度 金氧半場效電晶體 Threshold voltage Doping density MOSFET
描述:
來源期刊:宜蘭大學工程學刊
卷期:2 民95.02
頁次:頁27-35
日期:
20060200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

雲煙過眼新錄(1)
杭菊與野菊之介紹及療效研究
臺灣新文學史(6)--寫實文學與批判...
酸性離子液體觸媒在煉油及石化工業之應...
佛國淨土與中國神話:莫高窟285窟的...
如何妥善因應及減少慢性C型肝炎病患在...