A Chemical Kinetics Model for Oxide Chemical Mechanical Polishing
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A07002306
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 陳秉訓(Chen， Ping-hsun) 施漢章(Shih， Han-chang)
- 主題與關鍵字：
- Catalyst deactivation Kinetics Materials processing Polymers Slurries Unit operation Chemical mechanical polishing Slurry Pad Abrasives 化學機械研磨 CMP 化學動力學
- 描述：
- 來源期刊:Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
- 卷期:37:4 民95.07
- 頁次:頁401-405
- 日期：
- 20060700
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
