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奈米粉體製程環境微粒監測與口罩濾材過濾效率評估
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資料識別:
A06099933
資料類型:
期刊論文
著作者:
簡弘民(Chein, Hung-min) 黃俊超(Huang, Chun-chao) 陳姿名(Chen, Tzu-ming) 陳光宇(Chen, Eddy Kunag-yu) 徐禮業(Hsu, Li-yeh) 陳聖遠(Chen, Sheng-yuan)
主題與關鍵字:
電漿製程 奈米微粒 作業環境 暴露評估 Plasma manufacturing process Nanoparticle Working environment Exposure evaluation
描述:
來源期刊:勞工安全衛生研究季刊
卷期:14:2 民95.06
頁次:頁97-107
日期:
20060600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
簡弘民(Chein, Hung-min) 黃俊超(Huang, Chun-chao) 陳姿名(Chen, Tzu-ming) 陳光宇(Chen, Eddy Kunag-yu) 徐禮業(Hsu, Li-yeh) 陳聖遠(Chen, Sheng-yuan)(20060600)。[奈米粉體製程環境微粒監測與口罩濾材過濾效率評估]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4d/86/0b.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4d/86/0b.html
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