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電沉積Ni-W合金之耐蝕性研究
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資料識別:
A06095764
資料類型:
期刊論文
著作者:
柯世宗(Ke, Shih-tsung) 李九龍(Lee, Jeou-long) 侯光煦(Hou, Kung-hsu) 葛明德(Ger, Ming-der)
主題與關鍵字:
Ni-W合金 田口實驗計劃法 耐蝕性 Ni-W alloy Taguchi experimental plan Corrosion resistance
描述:
來源期刊:技術學刊
卷期:21:1 民95.03
頁次:頁75-79
日期:
20060300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
柯世宗(Ke, Shih-tsung) 李九龍(Lee, Jeou-long) 侯光煦(Hou, Kung-hsu) 葛明德(Ger, Ming-der)(20060300)。[電沉積Ni-W合金之耐蝕性研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4d/76/08.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4d/76/08.html
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