淺談高介電閘極絕緣層與金屬閘極--氟化與氮化技術之開發
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- 資料識別：
- A06092393
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 賴朝松 呂增富 王志耀 楊士正 彭興淦 范恭鳴 潘同明 王哲騏 吳偉成 許惠欣
- 主題與關鍵字：
- 高介電閘極 絕緣層 金屬閘極
- 描述：
- 來源期刊:電子月刊
- 卷期:12:9=134 民95.09
- 頁次:頁168-181
- 日期：
- 20060900
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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