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淺接面結構對功率電晶體電性改善之研究
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資料識別:
A06091774
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳啟文(Chen, C. W.) 顏培仁(Yen, P. J.) 吳明瑞(Wu, M. R.) 簡鐸欣(Chieh, D. S.) 簡鳳佐(Chieh, F. T.) 董正暉(Tung, C. H.) 涂高維(Tu, K. W.) 蘇世宗(Su, S. T.)
主題與關鍵字:
功率電晶體 磊晶層 導通電阻值 淺接面 Power MOSFET EPI R□ Shallow junction
描述:
來源期刊:明新學報
卷期:31 民94.10
頁次:頁129-136
日期:
20051000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
陳啟文(Chen, C. W.) 顏培仁(Yen, P. J.) 吳明瑞(Wu, M. R.) 簡鐸欣(Chieh, D. S.) 簡鳳佐(Chieh, F. T.) 董正暉(Tung, C. H.) 涂高維(Tu, K. W.) 蘇世宗(Su, S. T.)(20051000)。[淺接面結構對功率電晶體電性改善之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4d/66/78.html(2017/03/24瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4d/66/78.html
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