EBSD應用在低溫多晶矽薄膜之微結構分析與研究
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A06084512
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 黃宏勝(Huang， H. S.) 吳美倫(Wu， M. L.) 林麗娟(Lin， L. J.)
- 主題與關鍵字：
- 低溫多晶矽 電子背向散射繞射 菊池圖譜 載子遷移率 脈衝雷射退火 連續波雷射退火 Low temperature poly silicon LTPS Electron back-scattered diffraction EBSD Kikuchi pattern Carrier mobility Pulsed laser crystallization PLC Continuous wave laser crystallization CWLC
- 描述：
- 來源期刊:工業材料
- 卷期:238 民95.10
- 頁次:頁174-180
- 日期：
- 20061000
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
