用於次25奈米極紫外光曝光機之新穎反射型衰減式相位移光罩

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資料識別:
A06007238
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳學禮(Chen, Hsuen-li) 鄭旭君(Cheng, Hsu-chun) 洪鶯玲(Hong, Ying-ling) 朱鐵吉(Chu, Tieh-chi)
主題與關鍵字:
相位移光罩 解析度增益技術 極紫外光微影術 EUV
描述:
來源期刊:科儀新知
卷期:27:2=148 民94.10
頁次:頁24-29
日期:
20051000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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