電漿源與電漿表面改質技術簡介

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A06067094
資料類型:
期刊論文
著作者:
馬寧元(Ma, N. Y.) 李新中(Lee, H. C.)
主題與關鍵字:
表面改質 電漿源 電漿植入 電漿濺射 射頻輝光放電 電子迴旋共振 真空電弧 電漿聚合 電暈放電 Surface modifications Plasma sources Plasma implantation Plasma sputtering Radio frequency glow discharge RF glow discharge Electron cyclotron resonance ECR Vacuum arc Plasma polymerization Corona discharge
描述:
來源期刊:工業材料
卷期:235 民95.07
頁次:頁172-180
日期:
20060700
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

「幽靈」與「朋友」:論晚期解構主義的...
白話散文與雜文--《中國現代文學的兩...
IC光阻材料技術發展
佛國淨土與中國神話:莫高窟285窟的...
行動數位生活技術研發計畫成果與展望
天下無雙 古今鮮對--晉唐法書名蹟特...