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電漿源與電漿表面改質技術簡介
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後設資料
資料識別:
A06067094
資料類型:
期刊論文
著作者:
馬寧元(Ma, N. Y.) 李新中(Lee, H. C.)
主題與關鍵字:
表面改質 電漿源 電漿植入 電漿濺射 射頻輝光放電 電子迴旋共振 真空電弧 電漿聚合 電暈放電 Surface modifications Plasma sources Plasma implantation Plasma sputtering Radio frequency glow discharge RF glow discharge Electron cyclotron resonance ECR Vacuum arc Plasma polymerization Corona discharge
描述:
來源期刊:工業材料
卷期:235 民95.07
頁次:頁172-180
日期:
20060700
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
馬寧元(Ma, N. Y.) 李新中(Lee, H. C.)(20060700)。[電漿源與電漿表面改質技術簡介]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/fa/ee.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/fa/ee.html
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