奈米刻板技術之發展概況
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- 資料識別：
- A06061472
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 張勝立
- 主題與關鍵字：
- 光敏式雷射刻板 熱敏式雷射刻板 光學繞射極限 訊號坑 軌距 阻劑材料 蝕刻液 Photo mode laser recording Thermal mode laser recording Optical diffraction limit Pit Track pitch Resist material Etch solution
- 描述：
- 來源期刊:臺灣奈米會刊
- 卷期:5 民95.05
- 頁次:頁52-58
- 日期：
- 20060500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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