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Investigation of Material Removal Mechanisms Involved in ICP Etching of InGaN/GaN
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資料識別:
A06058907
資料類型:
期刊論文
著作者:
趙崇禮(Chao, Choung-lii) 周文成(Chou, Wen-chen) 石正宜(Shih, Cheng-yi) 馬廣仁(Ma, Kung-jeng) 陳大同(Chen, Ta-tung)
主題與關鍵字:
感應耦合電漿蝕刻 材料移除機制 ICP etching InGaN/GaN Material removal mechanisms
描述:
來源期刊:中正嶺學報
卷期:34:2(A) 民95.05
頁次:頁185-190
日期:
20060500
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
趙崇禮(Chao, Choung-lii) 周文成(Chou, Wen-chen) 石正宜(Shih, Cheng-yi) 馬廣仁(Ma, Kung-jeng) 陳大同(Chen, Ta-tung)(20060500)。[Investigation of Material Removal Mechanisms Involved in ICP Etching of InGaN/GaN]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/d7/32.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/d7/32.html
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