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Effective Channel Length Shrinkage and Earlier Punch-Through Effect in As/B-Implanted n+/p+ Dual Ploy-Si Gate CMOS Devices
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後設資料
資料識別:
A06050097
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳啟文(Chen, Chii-wen) 吳明瑞(Wu, Ming-ray)
主題與關鍵字:
穿透崩潰 有效通道長度 P型複晶矽 硼離子算擴散 再氧化氮氧化物 自我對準鈦矽化物 Punch-through Effective channel length P+-polysilicon Boron penetration reoxidized-oxynitride Titanium-polycide
描述:
來源期刊:明新學報
卷期:24 民89.06
頁次:頁307-313
日期:
20000600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
陳啟文(Chen, Chii-wen) 吳明瑞(Wu, Ming-ray)(20000600)。[Effective Channel Length Shrinkage and Earlier Punch-Through Effect in As/B-Implanted n+/p+ Dual Ploy-Si Gate CMOS Devices]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/b1/07.html(2017/03/24瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/b1/07.html
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