Effective Channel Length Shrinkage and Earlier Punch-Through Effect in As/B-Implanted n+/p+ Dual Ploy-Si Gate CMOS Devices

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A06050097
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳啟文(Chen, Chii-wen) 吳明瑞(Wu, Ming-ray)
主題與關鍵字:
穿透崩潰 有效通道長度 P型複晶矽 硼離子算擴散 再氧化氮氧化物 自我對準鈦矽化物 Punch-through Effective channel length P+-polysilicon Boron penetration reoxidized-oxynitride Titanium-polycide
描述:
來源期刊:明新學報
卷期:24 民89.06
頁次:頁307-313
日期:
20000600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

物種生態誌
南科345kV地下電纜線路之規劃設計...
基因、主體與後人文社會規範
明鄭時期臺灣「名士佛教」的特質分析
人工合成腐植酸對人類臍帶靜脈血管內皮...
基因醫學在臨床腫瘤學的應用