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氬氣/甲烷比對以電漿輔助化學氣相沉積法製備碳密封鍍層光纖性質的影響
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資料識別:
A06002747
資料類型:
期刊論文
著作者:
林家隆(Lin, Jia-long) 林宏謙(Lin, Hung-chien) 薛翔峻(Hseuh, Hsiang-chun) 薛顯宗(Shiue, Sham-tsong)
主題與關鍵字:
光纖 碳鍍層 化學氣相沉積 Optical fibers Carbon coating Chemical vapor deposition
描述:
來源期刊:興大工程學刊
卷期:16:3 民94.11
頁次:頁189-198
日期:
20051100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
林家隆(Lin, Jia-long) 林宏謙(Lin, Hung-chien) 薛翔峻(Hseuh, Hsiang-chun) 薛顯宗(Shiue, Sham-tsong)(20051100)。[氬氣/甲烷比對以電漿輔助化學氣相沉積法製備碳密封鍍層光纖性質的影響]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/5e/d8.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/5e/d8.html
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