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光電化學蝕刻製作矽質微米連續壁結構
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資料識別:
A06030080
資料類型:
期刊論文
著作者:
林景崎(Lin, J. C.) 陳威宇(Chen, W. Y.) 賴建銘(Lai, C. M.) 鄭文達(Jen, W. D.) 陳韋旭(Chen, W. S.)
主題與關鍵字:
n-型矽(100)單晶 光電化學蝕刻 連續壁 陽極極化曲線 N-type silicon (100) Photo-electrochemical etching Macro-wall array DC-potentiodynamic polarization
描述:
來源期刊:防蝕工程
卷期:19:3 民94.09
頁次:頁351-359
日期:
20050900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
林景崎(Lin, J. C.) 陳威宇(Chen, W. Y.) 賴建銘(Lai, C. M.) 鄭文達(Jen, W. D.) 陳韋旭(Chen, W. S.)(20050900)。[光電化學蝕刻製作矽質微米連續壁結構]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/5b/5a.html(2017/03/24瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/5b/5a.html
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