XeF準分子雷射退火之低溫多晶矽薄膜再結晶特性研究與分析
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- 資料識別：
- A06020132
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 郭啟全(Kuo， Chil-chyuan) 葉文昌(Yeh， Wen-chang) 鄭正元(Jeng， Jeng-ywan) 陳佳斌(Chen， Chia-bin)
- 主題與關鍵字：
- XeF準分子雷射退火 相變化 表面形貌 XeF excimer laser annealing Phase transformation Surface morphology
- 描述：
- 來源期刊:明志學報
- 卷期:37:2 民95.01
- 頁次:頁17-23
- 日期：
- 20060100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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