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離子束濺鍍法成長鋯與氧化鋯薄膜特性研究
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資料識別:
A06019896
資料類型:
期刊論文
著作者:
葉松瑋(Yeh, S. W.) 胡自立(Hu, T. L.) 楊宗閩(Yang, Z. M.)
主題與關鍵字:
離子束濺鍍 氧化鋯 分析式電子顯微鏡 Ion beam sputtering Zirconia Analysis electron microscopy
描述:
來源期刊:黃埔學報
卷期:47 民93.10
頁次:頁181-193
日期:
20041000
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
葉松瑋(Yeh, S. W.) 胡自立(Hu, T. L.) 楊宗閩(Yang, Z. M.)(20041000)。[離子束濺鍍法成長鋯與氧化鋯薄膜特性研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/30/6b.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4c/30/6b.html
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