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局部與全面形變矽通道(Strained Si Channel)互補式金氧半(CMOS)之材料、製程與元件特性分析
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後設資料
資料識別:
A05009489
資料類型:
期刊論文
著作者:
林宏年 呂嘉裕 林鴻志 黃調元
主題與關鍵字:
金氧半場效電晶體 應變矽 矽鍺磊晶 遷移率
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:12:2 民94.05
頁次:頁18-22
日期:
20050500
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
林宏年 呂嘉裕 林鴻志 黃調元(20050500)。[局部與全面形變矽通道(Strained Si Channel)互補式金氧半(CMOS)之材料、製程與元件特性分析]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4b/f9/cb.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4b/f9/cb.html
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