氮化鎵奈米線之CVD製作研究
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- 資料識別：
- A05008479
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 蔡國銘(Tsai， Kuo-ming) 謝忠祐(Hsieh， Chung-yu) 姚潔宜(Yao， Chieh-yi) 廖堃宏(Liao， Kun-hung)
- 主題與關鍵字：
- 奈米線 氮化鎵 氧化矽 Chemical vapor deposition CVD Nanowires Gallium nitride Silicon oxide
- 描述：
- 來源期刊:勤益學報
- 卷期:23:1 民94.06
- 頁次:頁1-15
- 日期：
- 20050600
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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