化學機械平坦化的未來技術
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- 資料識別：
- A05013190
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 宋健民
- 主題與關鍵字：
- 奈米鑽石 拋光 積體電路 摩爾定律 Nanom diamond CMP Wafer polishing ULSI Moore's law
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:266 民94.05
- 頁次:頁4-18
- 日期：
- 20050500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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