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在具有超薄(EOT=1.6nm)氮化閘極氧化層之0.13μm n型金氧半電晶體中由熱電子所引發於閘極絕緣層內之電子捕獲現象
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後設資料
資料識別:
A04045761
資料類型:
期刊論文
著作者:
余昱穎 陳經緯 簡昭欣
主題與關鍵字:
氮 熱電子 電子陷阱
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:11:4 民93.11
頁次:頁6-10
日期:
20041100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
余昱穎 陳經緯 簡昭欣(20041100)。[在具有超薄(EOT=1.6nm)氮化閘極氧化層之0.13μm n型金氧半電晶體中由熱電子所引發於閘極絕緣層內之電子捕獲現象]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4b/24/17.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4b/24/17.html
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