在具有超薄(EOT=1.6nm)氮化閘極氧化層之0.13μm n型金氧半電晶體中由熱電子所引發於閘極絕緣層內之電子捕獲現象

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A04045761
資料類型:
期刊論文
著作者:
余昱穎 陳經緯 簡昭欣
主題與關鍵字:
氮 熱電子 電子陷阱
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:11:4 民93.11
頁次:頁6-10
日期:
20041100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

電漿對聚酯纖維改質及其抗菌性之研究
傳統骨科中藥材骨碎補對骨母細胞之生理...
前衛運動、現代主義與後現代主義(1)
戰國至漢初的儒學傳承--以楚地簡帛為...
Extraordinary Accu...
液相層析質譜儀(LC/MS)與製藥工...