Growth Kinetics of Chemical-Vapor-Deposited Pb(Zr戓，Ti[fec5])O[feb0]Films from a Pb(C[feaf]H忦)[feb2]/Zr(O-t-C[feb2]H状)[feb2]/Ti(O-i-C[feb0]H乣)[feb2]/O[feaf] Reaction System
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- 資料識別：
- A04045397
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 鄭惟元(Cheng， Wei-yuan) 洪儒生(Hong， Lu-sheng)
- 主題與關鍵字：
- MOCVD PZT Pb(C[feaf]H忦)[feb2] Zr(O-t-C[feb2]H状)[feb2] Ti(O-i-C[feb0]H乣)[feb2] Growth kinetics Eley-Rideal mechanism 四乙基鉛 四異氧丁基鋯 四異氧丙基鈦 氧 低壓化學氣相沉積法 鋯鈦酸鉛膜 成長反應動力
- 描述：
- 來源期刊:Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
- 卷期:35:6 民93.11
- 頁次:頁603-611
- 日期：
- 20041100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
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