矽酸鉿與矽酸鋯薄膜的原子層沉積

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資料識別:
A04002969
資料類型:
期刊論文
著作者:
Vainonen-Ahlgren,E. Tois,E. Ahlgren,T. Khriachtchev,L. Marles,J. Haukka,S. Tuominen,M.
主題與關鍵字:
原子層沉積 薄膜 Atomic layer deposition ALD
描述:
來源期刊:電子月刊
卷期:10:3=104 民93.03
頁次:頁126-130
日期:
20040300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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