首頁
部落格
Facebook專頁
ENGLISH
珍藏特展
目錄導覽
技術體驗
成果網站資源
目錄導覽首頁
HOTKEY快速導覽
內容主題
典藏機構
進階搜尋
資源聯盟
首頁
目錄導覽
內容主題
新聞
國圖館藏期刊
首頁
目錄導覽
典藏機構與計畫
國家圖書館
國家圖書館期刊報紙典藏數位化計畫
65奈米電子世代下193奈米微影最具發展潛力
推薦分享
資源連結
連結到原始資料
(您即將開啟新視窗離開本站)
後設資料
資料識別:
A04002171
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳俊儒
主題與關鍵字:
微影製程 IC製造 193奈米微影濕浸式技術 157奈米微影 極短紫外光微影 投影式電子束微影技術 Liquid immersion Extreme ultraviolet EUV Electron-beam projection lithography EPL
描述:
來源期刊:新電子科技
卷期:215 民93.02
頁次:頁53+56+58+60+62
日期:
20040200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
陳俊儒(20040200)。[65奈米電子世代下193奈米微影最具發展潛力]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4b/0d/05.html(2017/03/25瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4b/0d/05.html
評分與驗證
請為這筆數位資源評分
感謝您為這筆數位資源評分,為了讓資料更容易被檢索利用,請選擇和這項數位資源相關的詞彙:
電子束微影
微影技術
微影製程
EUV
紫外光
請填入更適合的關鍵詞
推薦藏品
「淡新檔案」研究成果之一範例--戴著...
美學、民族誌與文學的文化功能:專訪嘉...
中醫藥對慢性病毒性肝炎療效評估之研究
咽喉異物感的探討
洛神賦圖:一個傳統的形塑與發展
杭菊與野菊之介紹及療效研究