65奈米電子世代下193奈米微影最具發展潛力
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- 資料識別：
- A04002171
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 陳俊儒
- 主題與關鍵字：
- 微影製程 IC製造 193奈米微影濕浸式技術 157奈米微影 極短紫外光微影 投影式電子束微影技術 Liquid immersion Extreme ultraviolet EUV Electron-beam projection lithography EPL
- 描述：
- 來源期刊:新電子科技
- 卷期:215 民93.02
- 頁次:頁53+56+58+60+62
- 日期：
- 20040200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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