Development of High Quality Tunnel Oxide and Nitride Layers for Sonos Flash Memories

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A04030655
資料類型:
期刊論文
著作者:
Wu,Kuo-hong Chen,Tung-sheng Chung,Hsien Kao,Chin-hsing
主題與關鍵字:
Flash memory SONOS Tunnel oxide Charge-trapping efficiency
描述:
來源期刊:International Journal of Electrical Engineering
卷期:11:3 民93.08
頁次:頁223-227
日期:
20040800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結