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資料識別:
A04028608
資料類型:
期刊論文
著作者:
楊詔中 黃戎巖 潘正堂 黃珩春
主題與關鍵字:
電子束微影 光子晶體 刻板製程 E-beam lithography Photonic crystal Mastering technology
描述:
來源期刊:機械工業
卷期:257 民93.08
頁次:頁231-238
日期:
20040800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
楊詔中 黃戎巖 潘正堂 黃珩春(20040800)。[電子束曝寫技術應用於光電元件之介紹]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/f7/b2.html(2017/03/25瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/f7/b2.html
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