矽深蝕刻中RIE LAG效應之消除
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- 資料識別：
- A04026955
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 陳秀香(Chen， Hsiu-hsiang)
- 主題與關鍵字：
- 活性離子蝕刻延遲 與深寬比有關的蝕刻率 保護層 RIE lag ARDE Passivator
- 描述：
- 來源期刊:光學工程
- 卷期:87 民93.09
- 頁次:頁55-60
- 日期：
- 20040900
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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