利用Fabry-Perot型抗反射層結構提升極紫外光微影光罩圖形檢視對比度之技術

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A04025190
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳學禮 柯宗憲 鄭旭君 朱鐵吉
主題與關鍵字:
抗反射層 極紫外光微影術 吸收層 緩衝層 Extreme ultraviolet lithography Absorber Buffer layer Antireflective coatings Fabry-perot
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:11:3 民93.08
頁次:頁1-5
日期:
20040800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

倫敦國家畫廊西歐繪畫的研究
白話散文與雜文--《中國現代文學的兩...
從西醫觀點論婦科腫瘤
臺灣中部蓮華池地區低海拔常綠闊葉林4...
Teaching Doris Les...
酸性離子液體觸媒在煉油及石化工業之應...